第96章 光刻机（2/2）

在这个过程中，光刻机利用了光的特性。它通过一种特殊的光源，产生一束极细且高度准直的光线。这束光线经过一系列的光学系统，包括透镜和反射镜等，被聚焦到极小的一个点上。

而要被光刻的硅片表面涂有一层特殊的光刻胶。当光线照射到光刻胶上时，光刻胶会根据光线的强度和波长发生化学反应。

通过控制光线的照射时间和强度，以及使用特殊的掩模版，掩模版上有着我们预先设计好的芯片电路图案，光线就能按照这个图案在光刻胶上进行曝光。

曝光后的光刻胶会发生性质的改变，经过后续的显影、蚀刻等工艺步骤，未被光刻胶保护的硅片部分就会被蚀刻掉，从而在硅片上留下与设计图案完全一致的微观结构。

这一系列的操作，都需要在极其严格的环境条件下进行，要保证极高的精度和准确性，误差往往要控制在几个纳米甚至更小的尺度。这是他们当时发布的时候说过的话。”

“老师，我明白了！”武落平感谢完老师后，又回到了实验室，开始了光刻机的研究。他从系统商城里购买了相关材料后就迫不及待地开始了光刻机的研究。

他首先以极其认真的态度仔细地整理了所需的各种资料和数据，将堆积如山的文件和密密麻麻的数据报表有条不紊地分类摆放。那些之前的研究成果和经验，被他如同珍宝般一一罗列在面前，每一项都被他仔细标注和分析，仿佛在回顾一段段艰辛而又充满希望的历程。

随后，他郑重地穿上了那件洁白无瑕的实验服，那纯净的颜色仿佛象征着他对科学的纯粹追求。他戴上手套，眼神中透着坚定和专注，全神贯注地调试着实验设备。他的手指熟练地在各种旋钮和按键上舞动，每一个动作都精准而又沉稳，确保每一个参数都能达到精准无误的程度。

武落平毫不犹豫地从光刻机的光源系统入手，对光源的波长、强度和稳定性展开了近乎苛刻的反复测试和调整。他像是一位挑剔的工匠，不断更换不同的光源组件，每一次更换都伴随着他深深的思索和期待。他手中的笔迅速地记录下每一次实验的数据，那密密麻麻的数字和符号仿佛是他与科学对话的独特语言。他的眼睛紧紧盯着测量仪器上的数值变化，目光锐利得不放过任何一个细微得几乎可以忽略的偏差。哪怕是极其微小的波动，都能引起他的高度警觉，然后迅速思考可能的原因和解决方案。

接着，他把注意力转向了光刻机的光学系统。他小心翼翼地清洁和校准透镜和反射镜，通过复杂的计算和精确的操作，努力使光线能够以最理想的方式聚焦和传播。在这个过程中，他遇到了光线散射和聚焦不准确的问题，但他没有丝毫气馁，而是反复查阅相关的理论知识，不断尝试新的方法和角度。

对于光刻胶的选择和优化，武落平同样投入了巨大的精力。他测试了多种不同成分和特性的光刻胶，观察它们在不同光线条件下的反应，寻找最适合当前光刻机系统的那一款。